포토갤러리

3차 고분자가공 교육 개최
CMiB \| 2011.11.23 17:44 \| 조회수 : 1285

2011년 11월 16일 한국화학연구원 강당에서 3차 고분자가공 교육이 개최 되었다. 본 교육은 고분자브랜드 생산기술 개발에 필요한 압출기 및 부속품 선정, 이에 따른 혼련 원리 및 제한점, 고분자 공정 원리에 기준한 소재 개발, 운전 데이터 취득의 중요성등의 고분자 압출에 대한 내용으로 진행되었다. 또한 화학소재정보은행 홈페이지 및 데이터베이스 사용방법에 대한 시연도 같이 진행하였으며 약 100여명이 참석하는 가운데 막을 내렸다.

2011년 11월 16일 한국화학연구원 강당에서 3차 고분자가공 교육이 개최 되었다.
본 교육은 고분자브랜드 생산기술 개발에 필요한 압출기 및 부속품 선정, 이에 따른 혼련 원리 및 제한점, 고분자 공정 원리에 기준한 소재 개발, 운전 데이터 취득의 중요성등의 고분자 압출에 대한 내용으로 진행되었다.
또한 화학소재정보은행 홈페이지 및 데이터베이스 사용방법에 대한 시연도 같이 진행하였으며 약 100여명이 참석하는 가운데 막을 내렸다.

업로드 copy.jpg